基本信息
设备简介：离子抛光技术通常采用惰性气体氩，通过将氩气离子化后，在电场加速作用下轰击到样品表面，利用动量转移的方式进行可控速率条件下，物理溅射轰击的方式对样品表面进行精细抛光处理，满足扫描电镜/EBSD等表面敏感分析技术制样需求。氩离子抛光仪能够在最短时间内解决各类扫描电镜制样困难材料的制样问题，同时具备紧凑、精确以及高稳定性的优点。
应用领域
•SEM/EBSD样品制备，
•去除样品表面应力
功能特色
1.两支独立可调电磁聚焦离子枪
2.同时具备高能量(快速抛光)和低能量(精细修复)，超宽加速电压范围：100eV到10kV，不同加速电压下，离子束束斑均保持最细最优束斑状态
3.配备磁编码器，带有样品测厚功能，自动匹配最佳抛光位置，保证最佳的抛光质量和效率
4.具备原位实时观察及记录抛光过程功能，可通过时间或温度自动停止